随着电子信息产业的飞速发展，高技术材料逐渐由块体向薄膜转移，镀膜器件随之快速发展起来。溅射法是制备薄膜材料的主要技术之一，溅射沉积薄膜的源材料即为靶材，材料化学成分含有贵金属元素的靶材统称为贵金属靶材。贵金属靶材是一种具有高附加价值的特种电子材料，在信息存储产业、微电子产业、新能源产业等技术领域，都需要通过溅射技术并采用不同的靶材制备出各种不同材质的薄膜，来达到产品的磁、电、光、压电等性能要求”。贵金属靶材市场规模日益扩大并已蓬勃发展成一个专业化的朝阳产业。

溅射镀膜技术、溅射用靶材及其制备技术目前多集中在国内外的靶材公司，如德国贺利氏、中国台湾光洋、日矿金属、田中贵金属等。它们引领着国际靶材技术方向，也占据着全球大部分靶材市场。

溅射靶材在中国是一个较新的行业。近年来，中国在溅射靶材的技术及市场方面取得了长足进步，但与国际先进水平相比，仍存在较大的差距，还没有一家专业化并有一定规模的靶材公司在全球高端靶材市场占有一席之地。随着市场的快速发展，对靶材品种要求越来越多,更新换代越来越快。加强研发制备靶材新工艺，同时解决尺寸、平整度、纯度、密度、杂质氮/氧/碳/硫(N/O/C/S)含量、晶粒尺寸与缺陷控制、表面粗糙度、电阻值、异物含量、导磁率等产品质量问题，任重而道远。